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菲希爾X射線熒光分析基礎和重要儀器性能

更新時間:2022-03-19   點擊次數:839次

菲希爾X射線熒光分析基礎和重要儀器性能

過去,X射線熒光分析(XRF)主要用于地質學。如今,它已成為工業和實驗室的關鍵技術。這種方法非常通用:它可以檢測從鈉到鈾的所有相關化學元素。

XRF通常用于材料分析,即確定樣品中給定物質的含量,如根據RoHS指令測量珠寶中的金含量或檢測日常物品中的有害物質。此外,XRF還可用于測量涂層厚度:快速、環保、無損。

菲希爾X射線熒光分析基礎和重要儀器性能

測量就是這樣進行的。

當X射線設備開始測量時,X射線管發出高能輻射,也稱為“初級"輻射。當這些X射線擊中樣品中的原子時,它們會增加能量——也就是說,它們會“激發"原子——并使原子在其原子核附近發射電子,這一過程稱為“電離"。因為這種狀態是不穩定的,所以來自較高電子層的電子移動來填充間隙,從而發出“熒光"輻射。

這種次級輻射的能級類似于指紋:它是每一種元素的特征。檢測器接收熒光并將信號數字化。信號處理后,設備產生光譜:檢測到的光子能級繪制在X軸上,其頻率(計數率)繪制在Y軸上。樣品中的元素可以根據光譜中的峰值位置(X軸方向)來識別。這些峰的水平(Y軸方向)提供了關于元素濃度的信息。

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